Ivan FaveroDirecteur de recherche du CNRS au laboratoire Matériaux et Phénomènes Quantiques (MPQ)

Proof of concept 2026

Proof of concept 2023

Consolidator Grant 2017

Médaille de bronze du CNRS 2012

Starting Grant 2012

Ivan Favero, directeur de recherche CNRS au laboratoire Matériaux et Phénomènes Quantiques (MPQ, CNRS / Université Paris Cité), étudie avec son équipe l’interaction entre la lumière et les systèmes nanomécaniques. Ses recherches se situent à la frontière entre l’optique, la matière condensée, la physique quantique, l’ingénierie et les nanotechnologies. Après des études à l’École polytechnique et un doctorat au Laboratoire Pierre Agrain de l’ENS sur la nano-photonique des boîtes quantiques (2005), il effectue un post-doctorat à l’Université de Munich, sur le sujet du refroidissement optique du mouvement de micro-leviers. Avec son équipe, au CNRS depuis 2008, il cherche à toujours mieux contrôler le couplage entre photons et phonons, créant pour ce faire des structures artificielles photoniques sur semi-conducteurs.

ERC PoC 2026 : ERror-free CLAdded PHOtonic circuits (ERCLAPHO)

Les imprécisions nanométriques de fabrication des circuits photoniques intégrés (PIC) induisent des erreurs de phase optique, avec de multiples impacts négatifs. Les techniques actuelles de contournement des erreurs dégradent le bilan énergétique des PIC, augmentent leur complexité, leur coût, et réduisent leur capacité de passage à l’échelle. L’objectif d’ERCLAPHO est de mettre au point une nouvelle technique pour corriger de manière permanente ces erreurs de fabrication dans les PIC. La technique est non volatile, spécifique, n’entraîne aucune perte optique additionnelle, atteint une précision de l’ordre du picomètre en longueur d’onde, et elle permet un passage à l’échelle. ERCLAPHO s’appuie sur une technologie brevetée issue des projets de recherche de l’ERC, et désormais validée sur des circuits intégrés photoniques (PIC) non encapsulés, fabriqués à partir de silicium et de semi-conducteurs III-V. ERCLAPHO adaptera cette technologie aux circuits intégrés photoniques encapsulés dans une gaine de protection, qui constituent aujourd’hui le principal enjeu industriel, et pour lesquels il n’existe aucune solution pleinement satisfaisante.

Le CNRS est l'institution hôte du projet ERCLAPHO.

ERC PoC 2023 : TUPHO - TUning of PHOtonic resonators

La photonique sur silicium a énormément progressé ces 15 dernières années : grands industriels de la micro-électronique et petites entreprises travaillent à présent sur le sujet, avec des produits identifiés. La reproductibilité des dispositifs micro et nanophotoniques reste pourtant un verrou technologique central, à faire sauter. Les erreurs de dimension des dispositifs fabriqués en salle blanche sont de 1 à 10 nanomètres (1%), limitant certaines applications. TUPHO explore une nouvelle technique qui permet de résorber ces erreurs en sortie de fabrication, de manière permanente et à bas coût. L’objectif est d’accorder les résonateurs photoniques avec une précision de 10^-4, voire de les rendre indiscernables quand nécessaire. Ceci est rendu possible par un procédé récemment découvert et breveté au laboratoire.