3 projets technologiques innovants dans les laboratoires de CNRS Physique

Institut lumière matière (ILM, CNRS/Université Claude Bernard Lyon 1)

Une équipe de scientifiques et d’ingénieurs de l’ILM dans le domaine des cristaux et des procédés de croissance s'est réunie autour de la création d’une société : Calistal. Celle-ci est spécialisée dans l’élaboration, la fabrication et la commercialisation de monocristaux de haute performance pour des applications hautes technologies à forte valeur ajoutée. Ces cristaux sont destinés à des secteurs stratégiques tels que les lasers, l’optique, les scintillateurs pour la détection et l’imagerie, ainsi que les technologies de Défense. Fort de son expertise et de sa maîtrise dans la croissance cristalline à haute température, Calistal vise à fournir des monocristaux aux propriétés exceptionnelles, répondant aux exigences les plus strictes en matière de qualité, de pureté et de performance. Son objectif est de devenir un fournisseur clef sur les marchés national et international, en accompagnant les avancées technologiques des industriels, des laboratoires de recherche et des institutions. En plaçant l’innovation, la rigueur scientifique et la fiabilité au cœur de sa démarche, elle contribue activement à préparer les technologies de demain.

Institut Néel (NEEL, CNRS)

PANaMa est un projet porté par Aloïs Arrighi, postdoctorant et futur CEO, et Laëtitia Marty, chercheuse CNRS, tous deux à l’Institut Néel. Soutenu par une prématuration CNRS et le PUI de l’UGA, il propose une nouvelle génération de stencil mask pour la mise en forme et la connexion de couches minces permettant de rendre les procédés de microfabrication plus rapides, simples et économiques en instrumentation. Cette technologie permet de s’affranchir des limites de la lithographie standard et notamment de réduire l’emploi de chimie potentiellement agressive pour des matériaux fragiles tels que les matériaux innovants pour l’électronique souple, le photovoltaïque, la nanoélectronique.

Laboratoire Matériaux et Phénomènes Quantiques (MPQ, CNRS/Université Paris Cité) 

Le projet TUPHO est porté par Hamidreza Neshasteh, ingénieur de recherche au CNRS, et Ivan Favero, directeur de recherche au CNRS, tous deux au MPQ. Ce projet est une initiative qui veut combler le fossé entre innovation en amont et production à grande échelle dans l’industrie des circuits photoniques intégrés (PICs).
Bien que les PICs aient le potentiel de révolutionner des domaines tels que la détection, les technologies quantiques, le calcul et les télécommunications — en offrant des performances accrues, une consommation d’énergie réduite et des coûts moindres —, leur industrialisation reste limitée en raison de très faibles rendements de production causés par des imperfections de fabrication. Même si les erreurs de dimension en fabrication sont aujourd’hui de seulement quelques nanomètres, elles doivent encore être minimisées jusqu’à l’échelle du picomètre pour atteindre un rendement de dispositifs fonctionnels supérieur à 90 %. Le projet TUPHO s’attaque à ce goulot d’étranglement critique grâce à une technique brevetée de post-fabrication permettant de corriger de manière permanente les erreurs de fabrication à l’échelle du wafer. Cette méthode permet d’ajuster les dispositifs photoniques avec une précision inégalée — à l’échelle du picomètre et en deçà — ouvrant ainsi la voie à une production à grande échelle avec des rendements élevés pour l’industrie des PICs.